导读:上海微电子举行首台2.5D / 3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台2.5D / 3D先进封装光刻机正式交付客户。
上海微电子举行首台2.5D / 3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台2.5D / 3D先进封装光刻机正式交付客户。
早在2021年9月18日,上海微电子宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。该光刻机主要应用于高密度异构集成领域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点,可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用,满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。
根据资料显示,该光刻机可满足0.8μm(800nm)分辨率光刻工艺需求,极限分辨率可达0.6μm(600nm);通过升级运动、量测和控制系统,套刻精度提升至≤100nm,并能保持长期稳定性。
注:1 微米(μm)=1000 纳米(nm)
此外,曝光视场可提供53mm×66mm(4倍IC前道标准视场尺寸)和60mm×60mm两种配置,可满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。
该IC后道先进封装光刻机比起此前的SSB500/40和SSB500/50型有着较大的提升。SSB500系列步进投影光刻机主要应用于200mm/300mm集成电路先进封装领域,包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式,可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。
以下为SSB500/40与 SSB500/50型光刻机的主要技术参数: