应用

技术

物联网世界 >> 物联网新闻 >> 物联网热点新闻
企业注册个人注册登录

美国又憋损招?拟限制这一新型AI芯片技术

2024-06-14 08:55 视觉物联
关键词:AI芯片GAA技术

导读:根据有关报道,美国政府正在考虑进一步限制中国获取用于人工智能(AI)的尖端芯片技术。据悉,美国此次锁定的目标是一种新型硬件技术——全环绕栅极(GAA)技术,该技术能够显著提升半导体的性能。

  根据有关报道,美国政府正在考虑进一步限制中国获取用于人工智能(AI)的尖端芯片技术。据悉,美国此次锁定的目标是一种新型硬件技术——全环绕栅极(GAA)技术,该技术能够显著提升半导体的性能。

  目前,包括英伟达、英特尔、AMD等芯片制造商及其合作伙伴台积电、三星电子都计划于明年开始大规模生产采用GAA技术的半导体。

  报道指出,尽管具体措施和时间表尚未确定,但美国的目标是使中国难以组装构建和操作AI模型所需的复杂计算系统,封锁技术商业化前的发展阶段。不过,这些措施不会完全禁止出口GAA芯片,而是将重点放在制造这些芯片所需的技术上。

  全环绕栅极(GAA)技术

  近年来,随着物联网、人工智能、智能驾驶、机器人等新兴领域的蓬勃发展,为半导体行业带来了新的机遇。在数字化加速转型及信息科技竞争加剧的背景下,半导体技术也变得更加精密和复杂,相关技术随之得以快速发展。

  在过去的这些年里,鳍式场效应晶体管(FinFET)架构遵循着摩尔定律随之发展。然而随着器件尺寸的不断缩小,FinFET架构正在接近其性能极限,难以满足晶体管所需的静电控制,其漏电现象随着尺寸的缩小而急剧恶化。于是,全环绕栅极(GAA)技术应运而生,其作为FinFET的“接班人”,被业界广泛视为下一代半导体技术的关键。

  全环绕栅极(GAA)技术是一种先进的晶体管结构,它通过将栅极完全包围在沟道周围,实现对电流的高效控制,从而提高芯片的性能和能效比。与传统的FinFET技术相比,GAA技术可以提供更高的性能、更低的功耗以及更小的芯片尺寸。

  据了解,三星电子是最早宣布开始生产基于3nmGAA工艺节点芯片的公司。三星的3nm GAA技术采用了更宽通的纳米片,与采用窄通道纳米线的GAA技术相比能提供更高的性能和能耗比。

  与三星5nm工艺相比,第一代3nm工艺可以使功耗降低45%,性能提升23%,芯片面积减少16%;而第二代3nm工艺则预计使功耗降低50%,性能提升30%,芯片面积减少35%。

  GAA技术对人工智能领域的影响

  当下,随着科技的飞速发展,以大模型为代表的人工智能技术已成为全球科技领域的热点和焦点。而在人工智能的快速发展进程中,硬件的进步始终是推动算法和应用走向实用化的核心动力之一。

  在这一进程中,GAA技术作为一种新型的晶体管技术,正逐渐在半导体行业中崭露头角,并对AI领域的应用有着深远的影响,其主要体现在以下几个方面:

  • 提升AI芯片的计算性能

  随着AI技术的高速发展,对高性能的计算需求日益增长,尤其是随着AI大模型的日益复杂化,对高性能的计算能力要求更高。而GAA技术通过优化晶体管结构,提高了晶体管的开关速度和性能,使得AI芯片在处理复杂任务时能够更快地完成计算,从而显著提升了AI芯片的运算速度和能效比。

  • 降低AI系统的成本

  能耗一直是限制AI发展的一个重要因素,尤其是在数据中心等大规模的运算场合,对低能耗的计算需求不断增长。借助GAA技术的低功耗优势,使得AI芯片能够在更短的时间内完成更多的运算任务。这也意味着在相同的性能要求下,采用GAA技术的AI芯片可以使用更少的核心和更低的功耗,从而降低整个AI系统的成本。

  • 加速AI技术的普及与发展

  随着GAA技术的应用,不仅为AI领域提供了更强大的计算能力,也使得更高性能的AI模型能够在更低的功耗下运行。这将加速AI技术在各个领域更加广泛的应用和普及,推动AI技术的快速发展。

  基于提高计算效率、降低能耗、推动技术普及等优势,GAA技术已成为人工智能领域的关键技术之一,当前在5G连接、医疗技术和自动驾驶等AI领域的应用中,GAA技术均为其带来了性能的显著提升。

  展望未来,随着技术的不断成熟和应用领域的扩展,GAA技术有望在未来几年内对AI领域产生深远的影响,开启智能计算的新纪元。

  GAA技术相关概念股

  目前,我国全环绕栅极(GAA)技术相关概念股有:柏诚股份、朗科科技、微导纳米、概伦电子、新莱应材、拓荆科技等。

公司名称

公司业务

柏诚股份

公司主要从事半导体及泛半导体、新型显示、生命科学、食品药品大健康以及新能源等高科技产业的高等级洁净室系统集成服务。中芯国际、上海微电子为重要客户。年报中提及环绕式栅极(GAA)技术带来高价值量洁净室的放量增长。

朗科科技

公司主要业务为存储产品研发、生产和销售,公司未来发展规划包括通过优化人工智能芯片的环绕式栅极(GAA)技术来提升生产能力。

微导纳米

公司是国内少数以ALD技术为核心的薄膜沉积设备生产商,公司ALD技术沉积出来的高质量的薄膜能够满足环绕式栅极(GAA)中薄膜沉积的要求。

概伦电子

公司是国内首家EDA上市公司,公司的EDA核心关键工具能够支持7nm/5nm/3nm等先进工艺节点和FinFET、FD-SOI、GAA等各类半导体工艺路线。

新莱应材

公司主营业务之一为洁净应用材料和高纯及超高纯应用材料的研发、生产与销售,公司在真空半导体产品封装最新技术环绕式栅极(GAA),III-V FinFET和Vertical等装配方案有全面的拓展。

拓荆科技

公司聚焦高端半导体设备领域,专注于薄膜沉积设备的研发和产业化应用,包括原子层沉积(ALD),可用于环绕式栅极(GAA)技术中的薄膜沉积需求。